荷兰ASML公司最新发布的光刻机型号是NXT:2000i。该款光刻机采用了最新的EUV技术，可以达到更高的曝光精度和速度。据称，NXT:2000i的曝光精度可以达到2纳米，曝光速度也比之前的机型提高了10倍。

EUV技术是目前最先进的半导体制造技术之一，可以实现更小的芯片设计和更高的性能。荷兰ASML公司一直是EUV技术的领先者，此次推出的NXT:2000i光刻机也再次证明了这一点。

除了性能方面的提升，NXT:2000i还采用了更加环保的工艺。该机型的使用寿命也得到了大幅提升，可以在更长的时间内保持高质量的生产。

据悉，荷兰ASML公司已经开始向全球客户提供NXT:2000i光刻机，有望进一步推动半导体制造业的发展。