当前位置：卫生资格考试 >> 卫生高级职称 >> 专业目录 >> 口腔内科（副高） >> 为达到良好的抗力形，下列哪项是错的

为达到良好的抗力形，下列哪项是错的

来源：焚题库 [2021-08-13] 【大中小】

类型：学习教育

题目总量：200万+

软件评价：

下载版本

单选题为达到良好的抗力形，下列哪项是错的 ( )

A.洞底要平，洞底轴壁与髓壁相交形成的轴髓线角不应超过锋锐

B.洞形要有一定的深度

C.邻^牙合洞应制成阶梯

D.邻^牙合洞邻面部分龈壁应作成斜向龈方的斜面

E.去除薄壁弱尖

参考答案：D

答案解析：无

题库产品名称	试题数量	优惠价	免费体验	购买
2021年医学高级职称《口腔内科（副高）》考试题库	1771题	￥150.00	免费体验	立即购买