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共享题干题 真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。
【单项选择题】第 1 题真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括( )。
A.预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间
B.预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间
C.现时温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间
D.现时温度,最终温度,预热时间,升温时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间
E.现时温度,最终温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间
正确答案:D
【单项选择题】第 2 题在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉,上釉有两种方法:自行上釉和分别上釉,其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟,高于体瓷烧熔温度的范围是( )。
A.31~40℃
B.21~30℃
C.10℃以内
D.11~20℃
E.5℃
正确答案:C
【单项选择题】第 3 题在烤瓷过程中不能使烤瓷件与炉膛内壁接触,如果接触,可能造成的最严重的后果是( )。
A.烤瓷失败
B.烤瓷失败,烤瓷件报废
C.烤瓷件与炉膛内壁发生粘连
D.炉膛报废
E.发热体损坏
正确答案:C
相关知识:口腔设备学
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